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产品展示

Aridus IIAridus II膜去溶雾化系统

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公司名称:

莱伯泰科有限公司 
发布日期: 2007-6-21 
所 在 地: 美国 
已获点击: 1230次
简单介绍:  
Aridus II膜去溶雾化系统是为各种ICP-MS专门研制的、专业进样系统附件,具有如下特性:
提高ICP-MS的灵敏度10倍以上
显著降低氧化物和氢化物水平
使ICP-MS可以直接分析有机溶剂样品(如甲醇、乙醇等)
大大改善信号的稳定性  
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【详细说明】
Aridus II膜去溶雾化系统

Aridus II膜去溶雾化系统是为各种ICP-MS专门研制的、专业进样系统附件,具有如下特性:

  • 提高ICP-MS的灵敏度10倍以上
  • 显著降低氧化物和氢化物水平
  • 使ICP-MS可以直接分析有机溶剂样品(如甲醇、乙醇等)
  • 大大改善信号的稳定性

Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

 
Aridus II的工作原理:

样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室,样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶"装置,利用“膜渗透"技术,分离样品气溶胶中的溶剂,利用一股反向的氩“穿透气"带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分,大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。

优点:
显著减小ICP-MS的干扰:
Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
配备Aridus II的ICP-MS检出限:(在非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Li

7

0.4

K

39

8

Na

23

15

Ca

44

300

Mg

24

6

Fe

56

10

 

卓越的信号稳定性:

Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准)

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